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标准概要
表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon
国家标准《表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法》 由TC608(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国科学院。 主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 。 主要起草人 马农农 、何友琴 、陈潇 、张鑫 、王东雪 、李展平 。 GB/T 40109-2021 现行 本标准等同采用ISO国际标准:ISO 17560:2014。 采标中文名称:表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法。
基础信息
标准号
GB/T 40109-2021
发布日期
2021-05-21
实施日期
2021-12-01
标准号
GB/T 40109-2021
发布日期
2021-05-21
实施日期
2021-12-01
起草单位
中国电子科技集团公司第四十六研究所
起草人
马农农
何友琴
王东雪
李展平
陈潇
张鑫
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申明
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