标准概要

硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法

Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry

国家标准《硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有限公司、厦门科鑫电子有限公司。主要起草人骆红、潘文宾、赵而敬、孙燕、张海英、徐新华、温子瑛、胡金枝、李素青、马林宝、李俊需。 GB/T 39145-2020 现行

基础信息

标准号 GB/T 39145-2020

发布日期 2020-10-11

实施日期 2021-09-01

标准号 GB/T 39145-2020

发布日期 2020-10-11

实施日期 2021-09-01

起草单位

南京国盛电子有限公司

浙江金瑞泓科技股份有限公司

有色金属技术经济研究院

龙腾半导体有限公司

有研半导体材料有限公司

上海合晶硅材料有限公司

无锡华瑛微电子技术有限公司

厦门科鑫电子有限公司

起草人

骆红

潘文宾

张海英

徐新华

李素青

马林宝

赵而敬

孙燕

温子瑛

胡金枝

李俊需

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