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标准概要
磁控溅射用钌靶
Magnetron sputtering ruthenium target
国家标准《磁控溅射用钌靶》 由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口,TC243SC5(全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会)执行 ,主管部门为中国有色金属工业协会。 主要起草单位 有研亿金新材料有限公司 、有色金属技术经济研究院 。 主要起草人 罗俊锋 、丁照崇 、李勇军 、向磊 、万小勇 、刘书芹 、熊晓东 、王庄 、贺昕 、滕海涛 、高岩 。 GB/T 34649-2017 现行
基础信息
标准号
GB/T 34649-2017
发布日期
2017-09-29
实施日期
2018-04-01
标准号
GB/T 34649-2017
发布日期
2017-09-29
实施日期
2018-04-01
起草单位
有研亿金新材料有限公司
有色金属技术经济研究院
起草人
罗俊锋
丁照崇
万小勇
刘书芹
贺昕
滕海涛
李勇军
向磊
熊晓东
王庄
高岩
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