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标准概要
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 有研新材料股份有限公司 、万向硅峰电子股份有限公司 、浙江省硅材料质量检验中心 。 主要起草人 孙燕 、李俊峰 、楼春兰 、潘紫龙 、朱兴萍 。 GB/T 24578-2009 (全部代替) GB/T 24578-2015 现行 GB/T 24578-2024 (全部代替)
基础信息
标准号
GB/T 24578-2015
发布日期
2015-12-10
实施日期
2017-01-01
全部代替标准
GB/T 24578-2009
标准号
GB/T 24578-2015
发布日期
2015-12-10
实施日期
2017-01-01
全部代替标准
GB/T 24578-2009
起草单位
有研新材料股份有限公司
浙江省硅材料质量检验中心
万向硅峰电子股份有限公司
起草人
孙燕
李俊峰
朱兴萍
楼春兰
潘紫龙
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