标准概要

硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy

国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位有研新材料股份有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心。主要起草人孙燕、李俊峰、楼春兰、潘紫龙、朱兴萍。 GB/T 24578-2009 （全部代替） GB/T 24578-2015 现行 GB/T 24578-2024 （全部代替）

基础信息

标准号 GB/T 24578-2015

发布日期 2015-12-10

实施日期 2017-01-01

全部代替标准 GB/T 24578-2009

标准号 GB/T 24578-2015

发布日期 2015-12-10

实施日期 2017-01-01

全部代替标准 GB/T 24578-2009

起草单位

有研新材料股份有限公司

浙江省硅材料质量检验中心

万向硅峰电子股份有限公司

起草人

孙燕

李俊峰

朱兴萍

楼春兰

潘紫龙

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申明

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