标准概要

碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法

Nondestructive test method for micropipe density of polished monocrystalline silicon carbide wafers

国家标准《碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位北京天科合达蓝光半导体有限公司、中国科学院物理研究所。主要起草人陈小龙、郑红军、张玮、郭钰、刘振洲。 GB/T 31351-2014 现行 20231108-T-469 正在征求意见

基础信息

标准号 GB/T 31351-2014

发布日期 2014-12-31

实施日期 2015-09-01

标准号 GB/T 31351-2014

发布日期 2014-12-31

实施日期 2015-09-01

起草单位

北京天科合达蓝光半导体有限公司

中国科学院物理研究所

起草人

陈小龙

郑红军

刘振洲

张玮

郭钰

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申明

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