标准概要

工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

国家标准《工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC1（全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。主要起草单位昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司、云南出入境检验检疫局技术中心等。主要起草人刘维理、王劲榕、李跃平、赵德平、杨毅等。 GB/T 14849.4-2008 （全部代替） GB/T 14849.4-2014 现行

基础信息

标准号 GB/T 14849.4-2014

发布日期 2014-12-05

实施日期 2015-08-01

全部代替标准 GB/T 14849.4-2008

标准号 GB/T 14849.4-2014

发布日期 2014-12-05

实施日期 2015-08-01

全部代替标准 GB/T 14849.4-2008

起草单位

昆明冶金研究院

昆明冶研新材料股份有限公司

中国铝业股份有限公司郑州研究院

云南出入境检验检疫局技术中心等

起草人

刘维理

王劲榕

杨毅

李跃平

赵德平

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申明

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