标准概要

化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法

Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method

国家标准《化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位中国科学院半导体研究所。主要起草人陈涌海、赵有文、提刘旺、王元立。 GB/T 26070-2010 现行

基础信息

标准号 GB/T 26070-2010

发布日期 2011-01-10

实施日期 2011-10-01

标准号 GB/T 26070-2010

发布日期 2011-01-10

实施日期 2011-10-01

起草单位

中国科学院半导体研究所

起草人

陈涌海

赵有文

提刘旺

王元立

推荐标准

申明

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