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标准概要
化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
国家标准《化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 中国科学院半导体研究所 。 主要起草人 陈涌海 、赵有文 、提刘旺 、王元立 。 GB/T 26070-2010 现行
基础信息
标准号
GB/T 26070-2010
发布日期
2011-01-10
实施日期
2011-10-01
标准号
GB/T 26070-2010
发布日期
2011-01-10
实施日期
2011-10-01
起草单位
中国科学院半导体研究所
起草人
陈涌海
赵有文
提刘旺
王元立
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