标准概要

硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法

Testing method for crystallographic perfection of silicon by preferential etch techniques

国家标准《硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。主要起草单位峨嵋半导体材料厂。主要起草人何兰英、王炎、张辉坚、刘阳。 GB/T 1554-1995 （全部代替） GB/T 1554-2009 现行

基础信息

标准号 GB/T 1554-2009

发布日期 2009-10-30

实施日期 2010-06-01

全部代替标准 GB/T 1554-1995

标准号 GB/T 1554-2009

发布日期 2009-10-30

实施日期 2010-06-01

全部代替标准 GB/T 1554-1995

起草单位

峨嵋半导体材料厂

起草人

何兰英

王炎

张辉坚

刘阳

推荐标准

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GB/Z 42153-2022 波浪能转换装置预样机测试规程

GB/T 223.11-2008 钢铁及合金铬含量的测定可视滴定或电位滴定法

GB/T 19937-2005 无损检测渗透探伤装置通用技术要求

GB 15322.2-2019 可燃气体探测器第2部分：家用可燃气体探测器

GB/T 22631-2008 建筑物垂直部件抗冲击试验冲击物及通用试验程序

GB/T 22762-2022 家用和类似用途用装入式电动机热保护器

GB/T 20564.5-2010 汽车用高强度冷连轧钢板及钢带第5部分：各向同性钢

GB/T 11010-1989 光谱标准太阳电池

GB/T 17980.95-2004 农药田间药效试验准则（二）第95部分:杀菌剂防治香蕉叶斑病

申明

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