标准概要

酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质

Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry

国家标准《酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位新光硅业科技责任有限公司。主要起草人王波、过惠芬、吴道荣、梁洪、敖细平。 GB/T 24582-2009 废止 GB/T 24582-2023 （全部代替）

基础信息

标准号 GB/T 24582-2009

发布日期 2009-10-30

实施日期 2010-06-01

废止日期 2024-03-01

标准号 GB/T 24582-2009

发布日期 2009-10-30

实施日期 2010-06-01

废止日期 2024-03-01

起草单位

新光硅业科技责任有限公司

起草人

王波

过惠芬

敖细平

吴道荣

梁洪

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申明

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酸浸取 电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质

酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质