标准概要

宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法

Test methods for space vapour deposition protective film on semiconductor wire

国家标准《宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法》由TC425（全国宇航技术及其应用标准化技术委员会）归口，TC425SC2（全国宇航技术及其应用标准化技术委员会宇航电子分会）执行，主管部门为国家标准委。主要起草单位北京微电子技术研究所、中国航天电子技术研究院。主要起草人赵元富、姚全斌、林鹏荣、冯小成、荆林晓、李洪剑、付明洋、林建京、曹燕红、刘思嘉、刘征宇。 GB/T 43227-2023 现行

基础信息

标准号 GB/T 43227-2023

发布日期 2023-09-07

实施日期 2024-01-01

标准号 GB/T 43227-2023

发布日期 2023-09-07

实施日期 2024-01-01

起草单位

北京微电子技术研究所

中国航天电子技术研究院

起草人

赵元富

姚全斌

荆林晓

李洪剑

曹燕红

刘思嘉

林鹏荣

冯小成

付明洋

林建京

刘征宇

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申明

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