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  标准概要

刻蚀机用硅电极及硅环

Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
国家标准《刻蚀机用硅电极及硅环》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 有研半导体硅材料股份公司 、山东有研半导体材料有限公司 、新美光(苏州)半导体科技有限公司 、浙江海纳半导体有限公司 。 主要起草人 库黎明 、孙燕 、闫志瑞 、张果虎 、夏秋良 、潘金平 。 GB/T 41652-2022 现行
  基础信息
标准号 GB/T 41652-2022
发布日期 2022-07-11
实施日期 2023-02-01
标准号 GB/T 41652-2022
发布日期 2022-07-11
实施日期 2023-02-01
  起草单位
  有研半导体硅材料股份公司
  新美光(苏州)半导体科技有限公司
  山东有研半导体材料有限公司
  浙江海纳半导体有限公司
  起草人
  库黎明
  孙燕
  夏秋良
  潘金平
  闫志瑞
  张果虎
  推荐标准
  申明
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  关键词标签
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