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标准概要
刻蚀机用硅电极及硅环
Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
国家标准《刻蚀机用硅电极及硅环》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 有研半导体硅材料股份公司 、山东有研半导体材料有限公司 、新美光(苏州)半导体科技有限公司 、浙江海纳半导体有限公司 。 主要起草人 库黎明 、孙燕 、闫志瑞 、张果虎 、夏秋良 、潘金平 。 GB/T 41652-2022 现行
基础信息
标准号
GB/T 41652-2022
发布日期
2022-07-11
实施日期
2023-02-01
标准号
GB/T 41652-2022
发布日期
2022-07-11
实施日期
2023-02-01
起草单位
有研半导体硅材料股份公司
新美光(苏州)半导体科技有限公司
山东有研半导体材料有限公司
浙江海纳半导体有限公司
起草人
库黎明
孙燕
夏秋良
潘金平
闫志瑞
张果虎
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