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标准概要
碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、山东天岳先进科技股份有限公司 。 主要起草人 马农农 、何友琴 、陈潇 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、张红岩 。 GB/T 41153-2021 现行
基础信息
标准号
GB/T 41153-2021
发布日期
2021-12-31
实施日期
2022-07-01
标准号
GB/T 41153-2021
发布日期
2021-12-31
实施日期
2022-07-01
起草单位
中国电子科技集团公司第四十六研究所
山东天岳先进科技股份有限公司
有色金属技术经济研究院有限责任公司
起草人
马农农
何友琴
何烜坤
李素青
陈潇
刘立娜
张红岩
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